4月7日，光刻机十年成果汇报暨上海微电子装备有限公司十年回顾活动在沪举行。上海微电子装备有限公司现已成为世界上继欧洲和日本3家光刻机公司之后，第4家掌握高端光刻机系统设计与系统集成测试技术的公司。 十年前，国家科技部“十五”重大科技专项100纳米高端光刻机研制任务落户上海，主要依托上海微电子装备有限公司（SMEE）完成。十年来，上海微电子装备有限公司填补了国内光刻机在该领域的空白，并且在国际同类产品中处于先进水平，掌握了具有自主知识产权的高端光刻设备的总体设计技术、集成技术和关键单元技术，并形成系列产品。 全国人大常委会副委员长严隽琪发来贺信，科技部副部长曹健林，上海市委常委、常务副市长杨雄，全国政协常委、教科文卫委主任、原国家科技部部长徐冠华出席活动。 |
